全密閉一體化流程 多晶矽還原爐鍾罩清洗烘幹係統（tǒng）

改良（liáng）西門子法生產多晶矽時，對（duì）還原爐的沉積環（huán）境的（de）潔淨度要求（qiú）特別苛刻（kè），但在還原爐內高溫反應（yīng）過程中，還原爐鍾罩內壁表麵會沉積一定厚度的多晶矽副產物、矽粉等（děng）汙垢，積垢（gòu）的形（xíng）成會對還原爐的絕緣性能、能耗指標、產品質量等產生嚴重的影響，所以在還原（yuán）爐運行一個周期結束（shù）後，需要對還原爐鍾（zhōng）罩內壁進行（háng）清潔，再進行周（zhōu）期的化學氣相沉積。

通常對（duì）於多晶矽還原爐鍾罩的清洗主要工藝包括：清洗劑(堿液)清洗→水洗→烘幹（gàn）三個過程，要求清洗後（hòu）的鍾罩爐內呈（chéng）現“無水、無（wú）油、無垢”的狀態，在國內多晶矽廠家生產初期，多采用人工手持高（gāo）壓水槍（qiāng）噴射到內壁上對附著汙垢依（yī）次（cì）進行純水清洗和清洗液（yè）清（qīng）洗，最後用高溫壓縮（suō）空氣進行烘幹，這種人工手持高壓水槍對多（duō）晶矽鍾罩進行開放式（shì）清（qīng）洗，多存在以下（xià）弊端：
 
1、還原爐內殘留物及清洗劑均為具有（yǒu）腐蝕性的化學物質，清洗時稍有不（bú）慎容（róng）易濺到（dào）身上造成傷害；

2、還原鍾罩內會有各種有毒有害氣體溢出或殘留，給清理人員（yuán）帶來健康和安全風（fēng）險；

3、同時在清洗中殘留氯矽烷會發生水解伴有氫氣產生，且水解（jiě）反應（yīng）為強烈的放熱（rè）反應（yīng），容（róng）易產生爆（bào）鳴燃燒；

4、人工清（qīng）洗質量不均勻，多需要對清洗不幹淨的部位（wèi）用酒精進行（háng）反複擦拭。

因此人工清洗方法存在（zài）不安全，不環保，清洗的一致性也難以保證、清洗效果（guǒ）差、自動化程度低、效率不高等缺陷。www.91潔全密閉式多晶矽還原爐鍾罩（爐筒）清洗烘幹係統，由高壓熱水清洗機構、清洗工作（zuò）台、萬級淨化幹（gàn）燥係統、循環過濾係統、電氣控製係統等組（zǔ）成，能夠代替人工實現還原爐鍾罩到（dào）位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水衝洗→淨化熱空氣幹燥→常溫（wēn）幹燥→鍾罩吊走（zǒu）的一體化清洗（xǐ）流程。
 
清洗時采用（yòng）高壓水射流三維立體清洗（xǐ）技術，可實現對鍾罩內部表（biǎo）麵進行360°無死角水力掃射，並采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用脫鹽水預清洗再依次（cì）用溶（róng）液、脫鹽水漂（piāo）洗，之後再采（cǎi）用高純水衝洗，從而完成（chéng）清洗過程；清洗工藝完成後，其後用經過三級淨化(10萬級)的純淨空（kōng）氣，梯級加（jiā）熱，保證烘幹（gàn）完（wán）的鍾（zhōng）罩（zhào）不（bú）再結露，可直接進入生產作業。

采用全（quán）密閉式清洗烘幹係統可有效防止清洗時高壓水射流（liú）噴射出鍾罩外，使汙染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設計出口排放，有效避免人員安全隱患及環境汙染事故，係統核心部件均為（wéi）原裝進口，采用歐洲標（biāo）準，保證了多（duō）晶矽鍾罩清洗係統性能可靠。
 
www.91潔全密閉式多晶矽還原爐鍾罩（zhào）（爐筒）清洗烘幹係統可以（yǐ）在一套係統實現多種型號鍾罩的自動清洗烘幹，清洗烘幹時間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數可以根據需要自行調整（zhěng）設定，並可實現遠（yuǎn）程（chéng）對設備的控製和主要參數監控，目前www.91（gāo）潔在多晶矽還原爐清洗行業已（yǐ）擁（yōng）有國內90%的用戶，為多晶矽行（háng）業提供了幾（jǐ）十套還原爐清（qīng）洗（xǐ）係統，如您有需求歡迎電話聯係，德（dé）高潔將竭（jié）誠為您服務。