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首頁（yè） > 技術（shù）文章

多晶矽生產設備清洗的意（yì）義

時間：2018-05-28     來源： 北（běi）京（jīng）www.91潔清潔設備有限公司

多晶矽按不同的用（yòng）途可分為太陽能級（jí）多晶矽和電子級多晶矽兩類。太陽能級多晶矽的純度一般在5～7N，主要雜質為Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等，金屬雜質總含量≤0.2(太陽能三級品要求（qiú）)。電子級多晶矽一般含Si＞99.9999%以上，超高純達到99.9999999%～99.999999999%，即9～11N，其導電性為10- 4～1010Ω·cm，碳濃度＜2×1016at·cm- 3。
 
油脂、水分、氯離子殘（cán）留、金屬氧化物、氯化物、灰塵及（jí）其他雜質，對多晶（jīng）矽（guī）的純度影響極大。在多晶矽設備製造、安裝和（hé）多晶矽生產過程中清洗是十分重要的部分，要（yào）按多晶矽生產工藝，對不同潔淨度要求（qiú）、不同材質的設備采用不同的清洗方法。'
 
多晶矽
 
多晶矽設備的清洗的不同（tóng）階段：
 
1、設備製造階（jiē）段的清洗
 
金屬設備及管道、零件需要在除漆前將表麵的氧化皮和鐵鏽除掉，設備內部的油脂、軋製鱗片、鏽皮等也需要進行（háng）清洗。
 
2、多晶矽設備安裝階段的清潔
 
由於（yú）工藝管道輸送的介質特性及產品純（chún）度要求，對管道的焊接質量（liàng）及內部清潔、吹掃試壓均有較高要求（qiú），對（duì）設備進場驗收、檢驗及（jí）安裝（zhuāng）、內部處（chù）理也（yě）有（yǒu）較高（gāo）要求，因此設備製造結（jié）束後的清洗處理至關重要。在裝置進行試生產（chǎn）前期，係統注入四氯化矽進行循環清洗約2～3個月，時間的長短取決於設備前期清洗情況。
 
3、多晶矽設備生產期間（jiān）的清洗
 
還（hái）原爐和氫化爐是改良西門子法生產多晶（jīng）矽（guī）的核心設備，其運行好（hǎo）壞直接影響多（duō）晶矽質量及生產成本。多晶矽生產（chǎn）對（duì）還原爐的沉積環境的潔淨度要求特別關（guān）鍵，任何顆（kē）粒性雜質、油脂等（děng）物質餘留在爐內，都會對產品質量造成影響。北（běi）京www.91潔清（qīng）潔設備有（yǒu）限公司經過研發設計並製造出了多晶（jīng）矽自動化還原爐鍾（zhōng）罩清洗係統，可以完全將多（duō）晶矽還原爐鍾（zhōng）罩清（qīng）洗幹淨，滿足生產需（xū）求。
 
www.91（gāo）潔（jié）電子級多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗係統包括低壓熱水清洗動力裝置（zhì）、三維洗罐器、旋轉和（hé）升降執行（háng）機構、清洗工作台（tái）、萬級淨（jìng）化幹燥係統、循環過濾（lǜ）係統、控製裝置、微負壓係統、清洗工（gōng）作台、電氣控（kòng）製係統等，係統實現了鍾罩的全自動（dòng）清洗和（hé）烘幹操作（zuò）。
 
www.91潔多晶（jīng）矽還原爐鍾罩清洗係統（tǒng）
 
電子級多晶（jīng）矽還原爐鍾罩自動清洗係統特點：以（yǐ）水力（lì）自驅動三維洗罐器（qì）為（wéi）噴（pēn）頭，形成360° 3D形式的（de）網狀噴射來完成爐筒內部表麵的（de）水力掃射。配以旋轉和（hé）升降的清洗吹幹執行機構，準確定位。操作簡單方便，係統控製，清洗、吹幹自行調整（zhěng）。不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗。
 
在整個還原（yuán）爐的清（qīng）洗過程中（zhōng），清洗（xǐ）、幹燥中筒內形成微負壓狀態，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下（xià）法蘭處的汙染物等一並（bìng）吹掃，通過排汙管排出，從而保證了（le）整個過程不會對潔淨區造成汙染。
 
生產多晶（jīng）矽的工藝複（fù）雜（zá），設備（bèi）清洗是可以降低能耗保證多晶矽產品質量的。多晶矽生產企業對設備須從選型（xíng）、選材、清洗等（děng）方麵進行合理、科學的管理，應用現代技（jì）術，進行全程清洗，以充分發揮（huī）設備功效（xiào），為安全、高效生（shēng）產創造條件。
  • 標簽：
  • 多（duō）晶矽
  • 還原爐
  • 氫化爐
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