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一、係統概述

多晶矽還原爐體(tǐ)及鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多晶矽生產(chǎn)工藝,用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況(kuàng)條件(jiàn)下無汙染幹式清洗。清洗時利用上下移動和旋轉機構(gòu)帶(dài)動高壓氣體噴吹以及特殊(shū)旋轉刷組合機構近距離對反應(yīng)釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過(guò)清洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵淨化器一次性進行除塵淨化。
二、係統特點(diǎn)
1、裝置為移動單元式結構;
2、淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在(zài)室內排放;
3、采用全(quán)封閉(bì)幹式的清洗方式(shì)確保對環境不出現二次汙染;
4、電氣設計按隔爆的各項要求執行、 設備設有(yǒu)靜(jìng)電導出裝置;
5、控製方式可為全自動或手動控製;
6、運行總功(gōng)率小(xiǎo),噪聲低。

三、清(qīng)掃工藝
反應釜吊裝至清洗(xǐ)台上(shàng)→定位→連(lián)接→啟動淨化器→啟動旋轉→上下移動機構→高壓氣(qì)體沿壁噴吹→旋轉刷至上(shàng)而下接觸移動清掃→淨化氣體置換→反應釜吊起→檢查。
四、設(shè)備組成
主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控(kòng)製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器、電氣控製係統等組成。
主要部(bù)件采用進口零部件,確(què)保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。

多晶矽還原爐體(tǐ)及鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多晶矽生產(chǎn)工藝,用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況(kuàng)條件(jiàn)下無汙染幹式清洗。清洗時利用上下移動和旋轉機構(gòu)帶(dài)動高壓氣體噴吹以及特殊(shū)旋轉刷組合機構近距離對反應(yīng)釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過(guò)清洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵淨化器一次性進行除塵淨化。
二、係統特點(diǎn)
1、裝置為移動單元式結構;
2、淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在(zài)室內排放;
3、采用全(quán)封閉(bì)幹式的清洗方式(shì)確保對環境不出現二次汙染;
4、電氣設計按隔爆的各項要求執行、 設備設有(yǒu)靜(jìng)電導出裝置;
5、控製方式可為全自動或手動控製;
6、運行總功(gōng)率小(xiǎo),噪聲低。

三、清(qīng)掃工藝
反應釜吊裝至清洗(xǐ)台上(shàng)→定位→連(lián)接→啟動淨化器→啟動旋轉→上下移動機構→高壓氣(qì)體沿壁噴吹→旋轉刷至上(shàng)而下接觸移動清掃→淨化氣體置換→反應釜吊起→檢查。
四、設(shè)備組成
主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控(kòng)製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器、電氣控製係統等組成。
主要部(bù)件采用進口零部件,確(què)保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。



