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一、係統概述

多晶矽還原爐體及(jí)鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多晶矽生產工(gōng)藝,用於還原車(chē)間反(fǎn)應釜中矽汙染物(wù)附著力不大的工況條件下無(wú)汙染幹式清洗。清(qīng)洗時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣(qì)體噴吹以及特殊旋轉刷組合機(jī)構近(jìn)距離對反應釜表麵進行噴(pēn)吹和接觸(chù)式清掃達到(dào)清洗的目的。通過清洗旋(xuán)轉(zhuǎn)調速機構可(kě)滿足各工(gōng)況的要求。清洗的同(tóng)時采用特殊除塵淨化器一次性進行(háng)除塵淨化。
二、係統特點
1、裝置為移動單元式結(jié)構;
2、淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排放;
3、采用全封閉幹式的清洗方式確保對環(huán)境不出現二次(cì)汙染;
4、電氣設(shè)計按隔爆的各項要(yào)求(qiú)執行、 設備設有靜電導出裝置;
5、控製方式可為(wéi)全自動或(huò)手動控製;
6、運行總功(gōng)率(lǜ)小,噪聲低(dī)。

三、清掃工藝(yì)
反應釜吊裝至清洗台上→定位→連接→啟動淨化器→啟(qǐ)動旋轉→上下移動(dòng)機構(gòu)→高(gāo)壓氣體沿壁噴吹→旋轉刷至上而(ér)下接觸移動清掃→淨化氣體置換(huàn)→反應釜吊起→檢查。
四、設備組成(chéng)
主要由清洗平台(tái)、氣體噴吹裝置、吸(xī)塵輸送管道、控製閥(fá)門、動(dòng)力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器(qì)、電氣(qì)控製係統等組成。
主要部(bù)件采(cǎi)用進口零部件,確保運行可靠穩定(dìng)、使(shǐ)用(yòng)周期長。操作維修簡單。

多晶矽還原爐體及(jí)鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多晶矽生產工(gōng)藝,用於還原車(chē)間反(fǎn)應釜中矽汙染物(wù)附著力不大的工況條件下無(wú)汙染幹式清洗。清(qīng)洗時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣(qì)體噴吹以及特殊旋轉刷組合機(jī)構近(jìn)距離對反應釜表麵進行噴(pēn)吹和接觸(chù)式清掃達到(dào)清洗的目的。通過清洗旋(xuán)轉(zhuǎn)調速機構可(kě)滿足各工(gōng)況的要求。清洗的同(tóng)時采用特殊除塵淨化器一次性進行(háng)除塵淨化。
二、係統特點
1、裝置為移動單元式結(jié)構;
2、淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排放;
3、采用全封閉幹式的清洗方式確保對環(huán)境不出現二次(cì)汙染;
4、電氣設(shè)計按隔爆的各項要(yào)求(qiú)執行、 設備設有靜電導出裝置;
5、控製方式可為(wéi)全自動或(huò)手動控製;
6、運行總功(gōng)率(lǜ)小,噪聲低(dī)。

三、清掃工藝(yì)
反應釜吊裝至清洗台上→定位→連接→啟動淨化器→啟(qǐ)動旋轉→上下移動(dòng)機構(gòu)→高(gāo)壓氣體沿壁噴吹→旋轉刷至上而(ér)下接觸移動清掃→淨化氣體置換(huàn)→反應釜吊起→檢查。
四、設備組成(chéng)
主要由清洗平台(tái)、氣體噴吹裝置、吸(xī)塵輸送管道、控製閥(fá)門、動(dòng)力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器(qì)、電氣(qì)控製係統等組成。
主要部(bù)件采(cǎi)用進口零部件,確保運行可靠穩定(dìng)、使(shǐ)用(yòng)周期長。操作維修簡單。



