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多晶矽還原爐（lú）體及（jí）鍾罩幹式清掃裝置
多晶矽還原（yuán）爐體及鍾罩幹式清掃裝置使用時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以及特殊（shū）旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗（xǐ）的目的。通過清洗（xǐ）旋轉調速機構可（kě）滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除（chú）塵淨化器一次性進行除塵淨化。
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多晶矽生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工（gōng）況條（tiáo）件下無汙染幹式清洗（xǐ）。
■工作原理
清洗時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣（qì）體噴吹（chuī）以及特殊旋轉刷（shuā）組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和（hé）接觸式清掃達（dá）到（dào）清洗的目的。通過清洗（xǐ）旋轉調速（sù）機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采（cǎi）用特殊除塵淨化器（qì）一次（cì）性進行除塵（chén）淨化（huà）。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台（tái）上—定位—連接、啟動淨化器—啟動旋轉、上下移動機構—高（gāo）壓氣體（tǐ）沿壁噴吹—旋轉刷至上而下接觸移動清掃—淨（jìng）化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置
主要由清（qīng）洗平台、氣體噴吹裝（zhuāng）置、吸塵輸（shū）送管道、控製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器、電氣控製係統（tǒng）等組成。
主要部（bù）件（jiàn）采用進口零部件，確保運（yùn）行可靠穩定、使用周期長。操作維（wéi）修簡單。
■設（shè）備特點
1)裝置為移動單元式結構。
2)淨化後的空氣可（kě）達到10萬級的（de）淨化精度可（kě）完全在室內（nèi）排放。
3)采用全封閉幹式的清洗方式確保對環境不出（chū）現二次汙染。
4)電氣設計按隔爆的各項要（yào）求執行、 設備（bèi）設（shè）有靜電導出裝置。
5)控製方式可為全自（zì）動或手動控製。
6)運行總功率（lǜ）小，噪聲低。
