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多晶矽還原爐（lú）體（tǐ）及（jí）鍾罩幹式清掃裝置
時間（jiān）：2011-01-11 來源：
多晶矽還（hái）原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多晶矽生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況條件下無汙染幹式清（qīng）洗。
■工作（zuò）原理
清洗時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以（yǐ）及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和（hé）接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵淨化器一次性進行除塵淨化。
■工藝（yì）流程（chéng）
反應釜吊裝至清洗台上—定位—連接、啟動淨化器（qì）—啟動旋轉、上下移動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋（xuán）轉刷（shuā）至上而下接觸移動清掃—淨化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組（zǔ）成及配置
主要由清（qīng）洗平台、氣體噴（pēn）吹裝置、吸塵（chén）輸送管道、控製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭（tóu）、除塵（chén）淨化器、電氣控製係統等組成。
主（zhǔ）要部件采（cǎi）用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。
■設備特點
1)裝置為移動（dòng）單元式（shì）結構。
2)淨化後的（de）空（kōng）氣（qì）可達到10萬（wàn）級的淨化精度可完全在室內排放。
3)采用全封（fēng）閉幹式的清洗方式確保對環境不出現二次（cì）汙染。
4)電氣設計按隔爆（bào）的各項要求執行、 設備設（shè）有靜電導出裝置。
5)控製方式（shì）可（kě）為全自動或手動控製（zhì）。
6)運行總功率小，噪聲低。
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