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首頁 > 工(gōng)程案例

多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清(qīng)掃(sǎo)裝置

時間:2011-01-11     來源:

鍾罩幹式清掃示意圖
 
多晶(jīng)矽還原爐體及鍾罩(zhào)幹(gàn)式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
 
  ■適用範圍
 
  矽烷法多晶矽生產工藝。
 
  用於還原車(chē)間反應釜中矽汙染物附著(zhe)力不大的工況條件下無汙染幹式清洗。
 
  ■工作原理
 
  清(qīng)洗時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓(yā)氣體噴(pēn)吹以及特殊旋轉刷組(zǔ)合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清(qīng)掃達到清洗的目的。通過清(qīng)洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除(chú)塵淨化器一次性進行除塵淨化(huà)。
 
  ■工藝(yì)流(liú)程
 
  反應釜吊裝至清洗台上—定位—連接(jiē)、啟動淨化器—啟動旋轉(zhuǎn)、上(shàng)下移動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉(zhuǎn)刷至上而下接觸移動清掃—淨化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
 
  ■設備組成及配置
 
  主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵(chén)輸送管道、控製(zhì)閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵(chén)淨化器、電氣控製係統(tǒng)等(děng)組成。
 
  主要部件采用進口(kǒu)零部件(jiàn),確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單(dān)。
 
  ■設備特點
 
  1)裝置為移動單元式(shì)結構。
 
  2)淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排(pái)放。
 
  3)采用全封閉幹式(shì)的清洗方式(shì)確保對環境不出現二次汙染。
 
  4)電氣設計(jì)按隔爆(bào)的各項要求執行、 設備設有靜電導出裝置。
 
  5)控(kòng)製方式可為全自動或手動控製。
 
  6)運行總功率小,噪聲低。
 
多晶矽還原爐油套、放倒棒、底座清掃(sǎo)示意圖

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