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首頁（yè） > 技術文章

多晶矽還原爐內主要汙染物及（jí）清洗工藝

時間：2016-10-12     來源： 北京www.91潔清潔設備有限公司

從2010年至今，光伏產業呈現出了強勢的複蘇態（tài）勢，光伏市場需求旺盛。高純多晶矽是電子工業和太陽能光伏產業的基礎原料也是主要原料，在整個生產過程中，對產品質量的控（kòng）製要求很高。目前，生產多晶矽主要（yào）采用改良西門子法，對還原爐（lú）的沉積環境的潔淨度要求特（tè）別關鍵，任何顆粒性（xìng）雜質、油（yóu）脂等物質餘留在爐內，都會對產品質量（liàng）造成影響。
 
多晶矽矽（guī）棒
 
一、多晶矽還原爐內（nèi）主要汙染物
 
根據多晶矽生（shēng）產原理及實際生產情況分析，還原爐基盤及鍾罩表麵主要汙染物為無定形（xíng）矽粉，其次為多晶矽顆粒物、氯（lǜ）矽烷水（shuǐ）解（jiě）物及部分粉塵雜質。
 
1、無（wú）定形矽
 
還原爐在一個周期運行後，基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，主要成分為無定形矽粉（fěn）。基（jī）盤冷卻水溫度偏高，在還原爐基盤尾氣（qì）出口也會產（chǎn）生無定形矽。這些（xiē）無定形矽易形成一層膜附在基盤和鍾罩內表麵，甚至（zhì）在電極和（hé）石英環表麵。
 
2、氯矽（guī）烷水解（jiě）物
 
多晶矽（guī）打開鍾罩前要進（jìn）行嚴格的氮氣置換，但因還原爐結構（gòu）複雜，在進料（liào）口、尾氣管、窺視鏡等地（dì）方易形成置換死角，置換後爐內仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐筒提起後，氯矽烷殘留氣體與空氣（qì）接觸，會（huì）在基盤及爐筒表麵（miàn）形（xíng）成水解物。這些水（shuǐ）解物一（yī）般（bān）附著在進料（liào）管口及尾氣管口，其中矽酸鹽（yán）物質（zhì）為白色膠狀沉澱，二氧化矽（guī）為白色（sè）粉末狀固體，氯化氫遇潮形（xíng）成鹽酸殘留在基盤表麵。
 
3、多晶矽顆粒物
 
還原爐停爐過程（chéng）中，因停爐溫度控製不均，易造成矽棒（bàng）破裂，產生多晶矽碎屑；收割矽（guī）棒過程（chéng）中也（yě）會有部分（fèn）碎屑（xiè）遺留；如果遇到倒棒，碎屑（xiè）遺留會更多。
 
4、其他雜物
 
在收割矽棒中，會（huì）帶入少量的粉塵、油脂（zhī）等汙染物。油分子對多晶矽的危（wēi）害十分嚴重可能造成多晶矽反應速度（dù）減慢（màn），產量降低，甚至（zhì）矽反應停止。
 
二、多晶矽（guī）還原爐清洗方法
 
多晶矽還原爐鍾罩清洗前後（hòu）對比
 
現（xiàn）今各生產廠家（jiā）在開發新技術、進行技術（shù）改造的同時，通過對設備的清洗來降低能耗和保證多晶矽的產（chǎn）品質量。還原爐沉積多晶矽是（shì）間歇操作（zuò），一個運行周（zhōu）期（qī）結束後需要打開鍾罩收割（gē）矽棒，然後進行基盤清理，再（zài）裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。因此，想提高設備運（yùn）轉率（lǜ）、降低能耗，選擇方便、快捷、處理效果好的清（qīng）理工藝（yì）尤為關鍵。
 
www.91（gāo）潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機，以高（gāo）壓水射流（liú）為（wéi）動（dòng）力的（de）自驅動三維旋轉（zhuǎn）噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵，從而完（wán）成鍾罩（zhào）內部表麵的水力掃射，並（bìng）采用專用清洗劑等為主要（yào）清洗液，先用純水（去（qù）離子水或叫脫鹽水）漂洗，之後再采用高純水衝洗（xǐ），最終完成清洗過（guò）程。
 
www.91潔多晶（jīng）矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）係統核心部件高壓泵（bèng）采用進口耐酸堿、耐高溫、全不（bú）鏽鋼的（de）加壓泵，並利用多晶矽生產廠家的蒸汽餘（yú）熱將清洗介質加熱，從而改變原電加熱工藝。我公司自行研（yán）發設計的自驅動旋（xuán）轉升降噴射機構可適應各規格的還原爐體。
  • 標（biāo）簽：
  • 多晶矽
  • 還（hái）原爐
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