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多（duō）晶矽還原爐內主要汙染物及清洗工（gōng）藝（yì）

時間：2016-10-12     來源： 北京www.91潔清潔設備有（yǒu）限公司

從2010年至今，光（guāng）伏產業呈（chéng）現出了強勢的複蘇態勢，光伏市（shì）場（chǎng）需求旺盛。高純多晶矽是電（diàn）子工業和太陽能光（guāng）伏產業的基礎原料也（yě）是主要原料，在（zài）整個生產過程（chéng）中，對產品質（zhì）量的控製要求很高。目前，生產多晶矽（guī）主要采用改良西門子法，對還原爐的沉積環境的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內（nèi），都會對產品質量造成影響。
 
多晶矽（guī）矽棒
 
一、多晶矽還原爐內主要汙染（rǎn）物
 
根據多晶矽生產原理及實際生產情況分析，還（hái）原爐基盤（pán）及鍾罩表（biǎo）麵主要汙染物為無定形矽粉，其次為多晶矽顆粒物、氯矽烷水解物及部分粉塵雜質。
 
1、無定形（xíng）矽
 
還原爐（lú）在一個周期運行後（hòu），基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，主要（yào）成分為（wéi）無定形矽粉。基盤冷卻水（shuǐ）溫度偏高（gāo），在還原爐基盤尾氣出口也會產生無定形矽。這些無定形矽易形（xíng）成一層（céng）膜附在基（jī）盤和鍾罩（zhào）內表麵，甚至在（zài）電極（jí）和石（shí）英環表麵。
 
2、氯矽烷水解物
 
多晶矽打開鍾罩前要進（jìn）行嚴格的氮氣置換，但因還（hái）原爐結構複雜，在進料口、尾氣管（guǎn）、窺（kuī）視（shì）鏡等地方易形成置換（huàn）死角，置換（huàn）後爐內仍會預留（liú）部分氯（lǜ）矽烷氣體。當爐筒提起（qǐ）後，氯矽烷殘（cán）留氣體與空（kōng）氣接觸，會在基盤及（jí）爐筒表麵形成水解物。這些水解物一般附著在進料管口及尾氣管口，其中（zhōng）矽酸鹽物質為白色膠狀（zhuàng）沉澱，二氧化矽為（wéi）白色（sè）粉末狀固體，氯化氫遇潮（cháo）形成鹽酸殘留在基盤表麵（miàn）。
 
3、多晶矽顆（kē）粒物
 
還原爐停爐過程中，因停爐溫度控製不均，易造成矽棒破裂（liè），產（chǎn）生多晶矽碎屑；收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留（liú）；如果遇到倒棒，碎屑遺留會更多。
 
4、其他雜物
 
在收割矽棒中，會帶入（rù）少量的粉塵（chén）、油脂等汙染物。油分（fèn）子對多晶矽的危（wēi）害十分嚴重可能造成多晶矽反應速度減慢，產（chǎn）量降低，甚至矽反應停止（zhǐ）。
 
二、多晶矽還原爐清洗方法
 
多晶矽還原爐鍾罩清洗前後對比（bǐ）
 
現今各生產廠家在開發新技（jì）術（shù）、進行技術改造的同時，通過對設備的清洗來降低能耗（hào）和保證多晶矽的產品質量。還原爐沉積多晶矽是間歇操作，一個運行周（zhōu）期結束後需要打開鍾罩收割矽棒，然後進行基盤清理（lǐ），再裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。因此，想（xiǎng）提高設備運轉率、降（jiàng）低能耗，選擇方便、快捷、處理效果好的清（qīng）理工藝尤為關鍵。
 
www.91潔（jié）多晶矽還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機（jī）為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三（sān）維旋（xuán）轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵，從而完成（chéng）鍾罩內部表麵的水力掃射，並（bìng）采用專用清洗劑等為（wéi）主要清洗液，先用純水（去離子水或叫脫鹽水）漂洗，之後再（zài）采用高純水衝洗，最終完成清洗過程。
 
www.91潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統核心部件高壓泵采用進口（kǒu）耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵，並利用多晶矽（guī）生產廠家的蒸汽餘熱將清洗介質加熱，從而（ér）改變原電加熱工藝。我公（gōng）司自行研發設計的自驅動旋轉升（shēng）降噴射（shè）機構可適應各規格的還原爐體。
  • 標簽：
  • 多晶矽（guī）
  • 還原爐
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