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首頁 > 技術（shù）文章

電子級多晶矽還原爐鍾罩自（zì）動清洗係統成功問世

時間：2017-02-27     來源： 北京www.91潔清潔設備有限公司

多晶矽是用工業矽通過化學、物理途徑提純製得，多晶矽主要用於生產單晶矽和衛星太陽能電池。單晶矽（guī）即（jí）矽半導體是多晶矽的（de）衍生產品，是製造（zào）繼承電路（lù）和（hé）電子元件的優質材料，被（bèi）廣泛應用於電子工業（yè）中（zhōng）。
 
還原（yuán）爐沉積多晶矽是間歇（xiē）操作，一個運行周期內，矽棒不斷長大，一個運行（háng）周期結束（shù）後打開鍾罩收割矽棒。但在（zài）運行期內，基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，其主要成分是無定形矽。在收割（gē）矽棒後，需要進行基盤和鍾罩的清（qīng）理，再裝矽芯（xīn）進行（háng）下一（yī）個周期的化學氣相沉積。
 
多晶矽矽棒
 
還原爐鍾罩汙染物易（yì）造成內表麵熱量反射減（jiǎn）少，使生產能耗增加（jiā）；電極周圍汙染物降低了點擊的（de）絕緣而導致運行過程中接地故（gù）障、倒棒（bàng）等生產事故。而用於電子行業的多晶矽對產品質量純淨度的控製（zhì）要求更（gèng）高，
 
隨著我國半（bàn）導體工業發展，對多晶矽純度要求越來越高，還原（yuán）爐沉積環境的潔淨度就顯得特（tè）別關鍵，任何（hé）顆粒性雜質、油脂等（děng）物質餘留在爐內，都會對產品質量（liàng）造成影響。那麽，如何清理（lǐ）能方便快捷，同時效果更佳？
 
多晶矽還原爐清洗係統始於2009年，國內第一家研發設計製造並獲得實用（yòng）新型專利是北京www.91潔清潔設備有限公司，該公司多晶矽還原爐鍾（zhōng）罩清洗係統覆蓋了國內多家多晶矽（guī）生產企業。早期有高壓清洗、化學溶（róng）劑低壓清洗、機械拋光（guāng）等，但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗（xǐ）方式不僅不能將鍾罩清洗（xǐ）幹淨，還會損傷表麵鍍（dù）銀（yín）的還原爐鍾罩，為攻克這一難題（tí），一款全（quán）新的用於電子級的多晶矽還原爐鍾罩清洗係統應運而生。
 
電子級（jí）多晶矽還原爐鍾罩自（zì）動清洗係統特點：
 
1、多晶（jīng）矽還原爐（lú）鍾罩（zhào）清洗係統以水為動力（lì），以水力自驅（qū）動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內（nèi）部表麵的水力掃射（shè）。
 
2、采用（yòng）可以（yǐ）旋轉和升降的清洗吹幹（gàn）執行機構，根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位。可自動切換不同清洗液及吹幹，通過控製係統可對清洗、吹幹時間等進行調整。清洗時隻需一鍵操作即可（kě），操作簡單方便。
 
3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級後的清洗工作台，不（bú）僅可以滿足對內壁和視孔鏡的（de）清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，並清洗、吹幹。
 
4、在整（zhěng）個還（hái）原爐的清洗過（guò）程中，清洗、幹燥中筒內形成微負壓狀態，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下法蘭處的汙染物等一並（bìng）吹掃，通過排汙管排（pái）出，從而保證了整個過程不會（huì）對潔淨區造成汙染。
 
多晶矽還原爐鍾罩清（qīng）洗前後對比
 
經過實際應（yīng）用，多晶矽還原爐（lú）清洗係統整套（tào）係統可實現全自動化清洗操作，在一個（gè）工作（zuò）平台上，一次吊裝可依次實現自動清洗烘幹全部（bù）功能，完全實現無死角清洗，同時具有完善的聯（lián）鎖和保護功能。
  • 標簽：
  • 多晶矽
  • 還原爐鍾罩（zhào）
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